山東力冠微電子裝備

產(chǎn)品中心

? 石墨烯薄膜產(chǎn)業(yè)化設(shè)備 ? 寬幅卷對卷連續(xù)生長 ? APC系統(tǒng):真空蝶閥自動控制 ? 碳源等工藝氣體MFC控制 ? 薄膜制備過程全自動控制 ? 三腔室結(jié)構(gòu)

◆ 快速退火爐是利用紅外熱輻射實(shí)現(xiàn)快速加熱的一種半導(dǎo)體熱處理工藝設(shè)備，通過燈光輻射型熱源功率控制模塊裝置和專用燈組對位于工藝腔體的半導(dǎo)體硅片進(jìn)行快速加熱來實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的升溫過程

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