產品展示
PECVD (立式/臥式)
關鍵詞：
產品
新聞
下載
? PECVD主要應用于氧化硅(SiO?) 和氮化硅(SiN4) 材料的薄膜生長，工作原理是在低壓引入高頻射頻電源，采取電容耦合方式使工藝氣體電離放電，形成等離子體狀態(tài)，產生大量的活性基團，這些活性基團在襯底材料表面發(fā)生化學反應并沉積到襯底表面，生長出氧化硅(SiO?) 或氮化硅(SiN4) 薄膜
關鍵詞：
怎么才能選擇一款適合您的？
讓我們協助您！
我們的專家盡快與您聯系，滿足您更多需求。