山東力冠微電子裝備

產(chǎn)品展示

聯(lián)系方式

地址：濟(jì)南市槐蔭區(qū)濟(jì)南寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)園

電話：15562450816

郵箱：liguan@liguanchina.com

ALD設(shè)備

?適用領(lǐng)域：集成電路、先進(jìn)封裝 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ?適用材料：Si Suitable for Processing: Silicon (Si) ?晶圓尺寸：12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch ?適用工藝：氮化硅(SiN)、二氧化硅(SiO2)等膜層的沉積 Silicon Nitride (SiN)、 Silicon Dioxide（SiO2）, and other film layers

LPCVD設(shè)備

?適用領(lǐng)域：集成電路、先進(jìn)封裝 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ?適用材料：Si Suitable for Processing: Silicon (Si) ?晶圓尺寸：12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch ?適用工藝：氮化硅(SiN)、多晶硅(Poly-Si/U-Poly/D-Poly)、二氧化硅(TEOS)、HTO等 Applicable Processes: Silicon Nitride (SiN) Deposition, Polysilicon (Poly-Si / U-Poly / D-Poly) Deposition, Silicon Dioxide (TEOS) Deposition, HTO, etc.

氧化/擴(kuò)散/退火爐

? 適用領(lǐng)域： ?集成電路、先進(jìn)封裝 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ? 適用材料: ?Si Suitable for Processing: Silicon (Si) ?晶圓尺寸: ?12/8英寸 Wafer Size: 12/8 inch ?適用工藝: ?氧化(Oxidation)、退火(Annealing)、固化(Polyimide)、合金(Alloy)、擴(kuò)散(Diffusion) Applicable Processes: ?Oxidation, Annealing, Polyimide Curing, Alloy, Diffusion

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